分解出来的硫与影像上的银起作用,生成棕黄色的硫化银,会使影像逐渐变黄,所以水洗必须充分,一般在流动水中洗涤30min以上,水洗温度一般在20C左右为宜。对于珍贵的需长期保存的照片,在定影之后,再用3%H,0,和3%氨水处理5~6min,再水洗10~20min,即可使残留的硫酸钠变成对影像无害的硫酸钠和硫酸铵。还原太慢或在还原过程中不能区分曝光和未曝光卤化银的还原剂都不能作为显影剂。
“曝光显影工艺就是我们常说的黄光工艺,这种曝光工艺其实是很成熟的,它应用在PCB行业、半导体行业、甚至显示面板行业,但这种工艺应用到现在的3D玻璃盖板工艺的时间并不长。这种工艺的优点是曝光的精度高,它的良率高。”
虽然如此,但是PCB曝光工艺和半导体工艺曝光工艺条件不一样,PCB通常是贴合式曝光,曝光是没有距离的,但现在的盖板是3D曲面盖板,它的曝光,通常来说MASK它跟产品有一定的距离,这个距离会造成一定的偏差,所以它的工艺是有难点的。
什么是曝光显影工艺?
不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收,分子会发生能级跃迁,从基态跃迁至激发态,改变物质化学性能。曝光显影工艺就是指利用物质这一特点,由紫外平行光源通过掩膜版对涂有特定吸收波长的油墨进行紫外光照射,然后通过化学去除多余涂层,从而达到图形转印的过程称之为曝光显影工艺。通常指在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程。
3D曲面玻璃利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷的问题,具有精度高,量产性好,良率高等特点。
在曝光显影工艺中,只有对以上各种公差配合完全掌握,才能简单可靠的做出合格产品。
曝光显影技术优势
1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题;
2、图形转印技术单层、多层套印精度高;
3、雾化喷涂确保厚度均一性,提高致密性,降低油墨厚度;
4、采用图形转印技术,良率较高;
5、4-6寸盖板单制程产能优势明显;
6、较薄的油墨利于贴合,提高制程整体良率
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