由表面层和基层组成的半导电辊;该表面层具有较高的电阻值,由橡胶组合物制成;基层具有较低的电阻值,由导电橡胶组合物组成。该半导电辊的目的在于通过良好地平衡表面层和基层的电阻值而获得良好的静电充电特性。有必要使这两种层的厚度高度准确。尼龙刷毛制成单片刷套,将单片刷套组合,并压合在刷辊辊轴上,由键和两端的端板固定后,对尼龙刷毛外圆周进行整体车削。为使两种层的厚度高度准确,需要较麻烦的管理,并且生产橡胶辊的成本较高。
精铝经过区熔提纯,只能达到5 的高纯铝,但如使用在有机物电解液中进行电解,可将铝提纯到99.9995%,并可除去有不利分配系数的杂质,然后进行区熔提纯数次,就能达到接近于 7 的纯度,杂质总含量<0.5ppm。在所有应用产业中,半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是苛刻的。这种超纯铝除用于制备化合物半导体材料外,还在低温下有高的导电性能,可用于低温电磁设备。
制备化合物半导体的金属如铟、磷,可利用氯化物精馏氢还原、电解精炼、区熔及拉晶提纯等方法制备超纯金属,总金属杂质含量为 0.1~1ppm。其他金属如银、金、镉、、铂等也能达到≥6 的水平。
热压法:ITO靶材的热压制作过程是在石墨或氧化铝制的模具内充填入适当粉末以后,以 100kgf/cm 2~1000kgf/cm 2的压力单轴向加压,同时以1000℃~1600℃进行烧结。热压工艺制作过程所需的成型压力较小,烧结温度较低,烧结时间较短。电子废料与黄金等贵金属成品之间的差价是比较固定的,而金银做为贵金属,不论在任何时候总是增值的,因此销售市场不存在问题。但热压法生产的ITO靶材由于缺氧率高,氧含量分布不均匀,从而影响了生产ITO薄膜的均匀性,且不能生产大尺寸的靶。
金属靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。有金属类、合金类、氧化物类等等。
简单说的话,例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜......铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。
应用于显示屏的阻挡层或调色层,笔记本电脑的装饰层、电池的封装等.
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